目前，世界各国主要采取三种取得方式：自然取得，登记取得，使用与登记取得，大多数国家采取登记取得制。我国也采取登记制度。

取得的程序：

(1)申请：向国家知识产权行政部门提交申请文件;

(2)初审;

(3)登记并公告;

(4)对驳回申请的复审;

(5)登记的撤销。

(四)集成电路布图设计申请阶段需提交的材料：

(1)集成电路布图设计登记申请表。

(2)集成电路布图设计的复制件或者图样。

(3)集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。 集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品。

(4)国家知识产权局规定的其他材料。

一、申请布图设计登记需提供资料：

(一)布图设计登记基本情况：1、申请人营业执照复印件;2、布图设计创作者的姓名;3、布图设计的名称、完成日期及其所用于的集成电路的分类;4、布图设计有商业利用行为的，该行为的发生日。

(二)布图设计的复制件或者图样;1、复制件或者图样的纸件应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上;2、复制件或者图样有多张纸件的，应当顺序编号并附具目录;3、复制件或者图样的纸件应当使用A4纸格式;如果大于A4纸的，应当折叠成A4纸格式;4、复制件或者图样可以附具简单的文字说明，说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。

(三)注意：布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该布图设计的集成电路样品。应当符合下列要求：1、所提交的4件集成电路样品应当置于能保证其不受损坏的专用器具中;2、器具中的集成电路样品应当采用适当的方式固定，不得有损坏，并能够在干燥器中至少存放十年。二、保护期限：布图设计专有权的保护期限为10年;自登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。三、申请时间：布图设计申请的时间：通常在3-6个月之内，视专利局处理速度而定。

一.人民法院或者管理专利工作的部门审理、处理专利侵权纠纷案件的依据。

1.人民法院或者管理专利工作的部门判断是否中止审理、处理程序依据。

2.人民法院或者管理专利工作的部门审理、处理专利侵权纠纷中判断是否侵权依据。

二.专利权人专利推广中证明专利“含金量”的依据。

三.应对专利侵权的资料储备。